KRI霍尔离子源EH 4200辅助镀膜IBAD用于PC预清洁

IBAD, 也叫离子束辅助沉积(lon Beam Assisted Depositon 或Ion Beam Enhanced Deposition, 是把离子束注入与气相沉积镀膜技术相结合的复合表面离子处理技术, 也是离子束表面处理优化的新技术.

这种复合沉积技术是在离子注入材料表面改性过程中, 使膜与基体在界面上由注入离子引发的级联碰撞造成混合, 产生过渡层而牢固结合. 因此在沉积薄膜的同时, 进行离子束轰击便应运而生. 因此它是离子束改性技术的重要发展, 也是离子注入与镀膜技术相结合的表面复合离子处理新技术. 在材料的腐蚀防护/ 装饰等方面获得工业应用.

伯东美国 KRI考夫曼离子源可以辅助可以有效镀膜 IBAD用于预清洁 PC, 可以有效防止出现膜层不均匀, 从而防止产品膜层脱落的现象, 因此美国 KRI 考夫曼霍尔型离子源广泛加装在各类蒸发镀膜机中.

离子源辅助镀膜客户案例一: 厦门某光学镀膜企业, 该企业使用日本 Shincron 真空镀膜机, 镀膜腔体约 2 m³, 镀膜机加装 KRI 霍尔离子源 EH 4200 起到预清洁 PC及辅助镀膜 IBAD 的作用.

离子源辅助镀膜具体操作, 霍尔离子源预清洁 PC +辅助镀膜 IBAD: 由于膜层表面很光滑,在镀膜时会产生膜层脱落现象, 预清洁就是将膜层表面用大的离子如 Ar 打击表面, 使得制程物能有效的吸附在表面上. 加装KRI霍尔离子源起到预清洁作用, 在预清洁后开启离子源辅助镀膜 IBAD, 膜层厚度均匀性及附着牢固度都明显提高.

工作示意图如下, KRI离子源覆盖面


使用专业测膜记号笔, 可以明显看出加装 KRI 离子源前后有很大的不同

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列主要应用

1.辅助镀膜 IBAD

2.溅镀&蒸镀 PC

3.表面改性/ 激活 SM

4.沉积 (DD)

5.离子蚀刻 LIBE

6.光学镀膜

7.Biased target ion beam sputter deposition (BTIBSD)

8.Ion Beam Modification of Material Properties (IBM)

例如

1. 离子辅助镀膜及电子*****蒸镀

2. 线上式磁控溅射及蒸镀设备预清洗

3. 表面处理

4. 表面硬化层镀膜

5. 磁控溅射辅助镀膜

7. 偏压离子束磁控溅射镀膜 

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                    F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                  M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                   ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

伯东版权所有, 翻拷必究!