氨逃逸在线分析系统

概述

氨逃逸在线分析系统是天禹智控自主研发新型在线监测系统，该产品基于可调谐激光吸收光谱技术（TDLAS）的原理，可测量NH3、H2S、HCL、HF等气体浓度。预处理系统采用热湿法设计，该系统具有灵敏度高、响应速度快、不受背景气体干扰、非接触式光学测量等特点，为实时准确地反映逃逸氨的变化提供了可靠保证。

产品特点

●  采用热湿取样方法，不受现场安装条件的限制，适用性广，使用和维护简单；

●  可靠的长光程加热气室设计；

●  超低浓度测量，分辨率可达0.1ppm；

●  高温取样，涂层气室，取样损失小于0.1ppm/米；

●  免标定设计，维护简单，使用成本低；

可调谐半导体激光吸收光谱（TDLAS）
1.可调谐半导体激光吸收光谱（TDLAS）
该技术主要是利用可调谐半导体激光器的窄线宽和波长随注入电流改变的特性实现对分子的单个或几个距离很近很难分辨的吸收线进行测量。
2.可调谐半导体激光吸收光谱原理
TDLAS通常是用单一窄带的激光频率扫描一条独立的气体吸收线。为了实现高的选择性，分析一般在低压下进行，这时吸收线不会因为压力而加宽。这种测量方法是Hinkley和Reid提出的，现在已经发展成为了灵敏和常用的大气中痕量气体的监测技术。
3.可调谐半导体激光吸收光谱的主要特点包括
(1) 高选择性，高分辨率的光谱技术，由于分子光谱的“指纹”特征，它不受其它气体的干扰。这一特性与其它方法相比有明显的优势。
(2) 它是一种对所有在红外有吸收的活跃分子都有效的通用技术，同样的仪器可以方便的改成测量其它组分的仪器，只需要改变激光器和标准气。由于这个特点，很容易就能将其改成同时测量多组分的仪器。
(3) 它具有速度快，灵敏度高的优点。在不失灵敏度的情况下，其时间分辨率可以在ms量级。应用该技术的主要领域有：分子光谱研究、工业过程监测控制、燃烧过程诊断分析、发动机效率和机动车尾气测量、爆炸检测、大气中痕量污染气体监测等。

技术参数

典型应用

广泛应用于燃煤发电厂、水泥厂、铝厂、钢铁厂、冶炼厂、玻璃厂、垃圾发电厂、化工厂等SCR或SNCR脱硝装置的氨气逃逸排放监测和过程控制。

“氨逃逸”指的是SCR脱硝反应器出口测量出的氨浓度,单位ppm.因为氨本身的易挥发的特性,只要是有氨参与反应的场所都有挥发、都有未参与反应的氨的存在,这部分的氨就是所谓的氨逃逸.在SCR脱硝中,为了减少运行成本,降低氨逃逸对锅炉下游设备的腐蚀,要尽量将氨逃逸控制在一定范围内,一把SCR,反应器出口的氨逃逸一般不超过3ppm.
根据国家最新的标准规定,SNCR脱销氨逃逸标准为8mg/m³(10ppm),SCR脱销氨逃逸标准为2.5mg/m³(3ppm).

氨逃逸浓度3ppm等于2.28mg/m.

氨逃逸率：一般来说,为SCR脱硝和SNCR脱硝工艺出口,未参与还原反应的NH3与出口烟气总量的体积占比,一般计量单位为PPM, 如果用质量占比,为mg/M3. 也叫氨逃逸浓度.

理论上脱硫循环液滴定度为15时，脱硫效果是彻底的，但氨逃逸比较厉害，经过我们实际运行经验一般控制在10~12个滴定度时,脱硫效果能达到98%-99% 而且氨逃逸较少，基本上SO2都能达到国家排放标准，当然通过双塔结构降低脱硫液的温度，来降低氨的逃逸也是可以的。

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