纳米激光直写系统型号擅长wafer尺寸的研究开发和小批量生产
纳米激光直写系统型号是一款大面积、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统，可用于晶圆尺寸的大面积微纳加工，适用于各种微纳结构和器件制造、小批量微纳器件生产等。该系列包括L50、L100等不同型号，具有功能强大、维护简单、加工分辨率高、支持多种刻写模式、支持多种受体材料等特征。另外，本系统在设计之初保留了充足的物理空间和硬件资源，以满足后续功能升级换代的需求，使产品具有更长的生命周期。
苏州华维纳纳米科技有限公司于2011年注册成立的高科技创新型公司，主要从事新型纳米光刻技术和无掩模纳米光刻机的研发和产业化工作。
激光直写系统的应用领域
该产品具有高精度、高效率和高灵活性等优势，在许多领域得到了广泛应用。
微纳加工
激光直写系统能够按照特定的轨迹制造微米级别的结构，如微型电子元器件、微流体芯片、生物芯片等。这种技术在纳米技术、生物医学、光电子学、量子计算等领域有着广泛的应用。
高精度模具制造
该产品能够制造出直径小于1微米的细小结构，使其成为高精度模具制造的理想工具。这种技术可实现快速生产小批量、高精度的模具，同时可以减少制造过程中的浪费和成本。
生物医学
激光直写系统可以用来制造生物芯片、微针和其他微型医疗设备。这种技术可以制造出具有特定结构和功能的微小器件，如药物输送系统、生物传感器等。
光学元件
激光直写系统可以制造高精度的光学元件，如微透镜、光纤耦合器、波导等。这些元件在通信、光电子学、生物医学等领域有着广泛的应用。
上一篇：没有了采用全新的技术路径提高加工分辨率，一举突破突衍射极限的限制，成功实现纳米尺度加工；突破了目前激光直写仅能用于有机光刻胶的现状，可以广泛应用于各种受体材料，极大地扩展了激光直写设备的应用范围。
新一代激光直写光刻设备特点
具有核心知识产权的国产激光直写设备
具有超越衍射极限的加工能力
纳米激光直写系统可适用于多种受体材料
纳米激光直写系统型号
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