CR-2000HG镀铬走位剂
CR-2000HG镀铬走位剂是新一代高分散性能快速装饰铬以及硬铬添加剂，适用于形状比较复杂的工件及对镀层平整度有要求的工件，减少漏镀及提高镀层平整度，分散能力和均镀能力很好，温度范围宽，哈氏试片7cm以上，可以应用于形状较复杂的装饰铬及电镀硬铬等行业。
一、CR-2000HG镀铬走位剂的技术特点
1、镀层光亮
2、深镀能力强，HULL槽试片可覆盖7厘米
3、电流效率高，可达22%
4、硬度高 ≥HV900
5、该工艺既可以用于电镀硬铬，也可用于电镀装饰铬
-
不含氟，不腐蚀阳极
二、CR-2000HG走位剂工艺参数
铬酸 230克/升
硫酸 1.3-1.6克/升
三价铬 2克/升
CR-2000HG-L镀铬催化剂 20毫升/升，CR-2000HG-S镀铬走位剂 3克/升
温度 45-60℃
电流密度 10-60安培/平方分米
沉积速度 10-55微米/小时
三、设备要求
镀槽：铁槽内衬软PVC或其他认可材料。
阳极：含锡7-10%铅锡阳极或其它认可材料。
整流器：输出电压可达9-16伏较适宜输出电流波纹率最好在5%以下
温度控制：采用电加热或换热器（钛管或金属披覆聚四氟乙烯）。
四、转缸及前处理
传统的镀铬液转为本工艺较简单，将镀液送交本公司化验，确认无机杂质小于7.5克/升。工艺的前处理同一般传统镀铬相同无需特殊处理。
五、槽液维护
日常维护每消耗50公斤铬酐添加4-6升CR-2000HG-L镀铬催化剂 ， 1公斤CR-2000HG-S镀铬走位剂
