研磨盘
详细说明：
制作工艺：压铸盘
厚度：12.5mm
优点：硬度、密度高，使用寿命长
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产品名称 |
技术参数 |
应用范围 |
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氧化铈盘 |
邵氏硬度：80-90度 抗压强度：3-5pas 抗拉韧度：80-95度 修面后表面：3-5um |
主要用于光纤手机玻璃，液晶玻璃，芯片及平面平晶的抛光。 |
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铜盘 |
维氏硬度：45-50度 抗压强度：8-10pas 抗拉韧度60-65度 修面后表面Ra：1-3um |
主要用于各种精密工件的精磨和平面修整及Ra的改善 陶瓷的抛光 LED的精磨等。 |
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铁盘 |
维氏硬度：50-55度 抗压强度：10-15pas 抗拉韧度：50-60度 修面后表面Ra：2-4um |
主要用于各种精密工件的减薄和平面整形，如：光学玻璃 光纤 导光板 阀片 五金零部件 陶瓷 单晶硅片 不锈钢等。 |
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铸铁盘 |
维氏硬度：55-60度 抗压强度：15-20pas 抗拉韧度：40-50度 修面后表面Ra：8-12um |
主要用于各种工件的快速减薄，配用不同研磨液可以减薄 LED 镜片 陶瓷和各种超硬有色金属。 |
