羟基铁粉，磁性三氧化二铁，磁性四氧化三铁在膜材料，靶材料中的抛光应用。
磁流变抛光，电子光学材料
磁流变抛光利用磁流变效应形成的抛光工具（“柔性微磨头”）以及抛光工具与工件之间形成的收敛间隙产生流体动压力对加工表面进行抛光加工。
磁流变液中的磁性颗粒在磁场作用下受到约束成链、成柱，对外表现为类固体的性质，具有一定的剪切应力。因此，磁性颗粒的性能是影响磁流变前屈服应力的主要因素之一。
常见的磁性颗粒为铁粉、四氧化三铁、磁性三氧化二铁
磁性颗粒对磁流变液的力学性能有较大影响。为保证磁流变液具有良好的力学性能，磁性颗粒的选取应该考虑以下方面：
纯度：颗粒纯度高，不含有其他杂质。杂质会降低磁响应性，并可能在抛光过程中划伤精密的光学表面。
磁化强度：饱和磁化强度更高的磁性颗粒在外加磁场地作用下可使磁流变液具有更高的力学性能。
低矫顽力：确保磁流变液可以在退去磁场后，液体粘度迅速恢复为零磁场粘度状态，保障抛光过程中液体可稳定循环回收。
羟基铁粉的纯度高（金属基纯度>99.9%）。微米级 球型或者片型
磁性三氧化二铁（金属基纯度>99.8）纳米级 针形和棒型
四氧化三铁 纯度>97% 200-300目 针型
磁流变抛光选择纯度高、粒度细、磁导率高、矫顽力小、磁致损失少、饱和磁感应强度高、磁化性能受温度影响较小，实现磁流变液具有快速、可控的流变性能，从而能够实现原子级的精密抛光。
同时铁基材料在催化剂行业广泛应用于炼油、石化、费托合成、排放控制、绿色燃料等。
